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가장 일반적인 조합은 습식 과립 기-혼합기와 스페로 나이저의 조합뿐만 아니라 스페로 나이저가있는 압출기의 조합이다. 유동층 펠릿 화. 유동층에서 회전식 인서트를 사용하여 펠렛을 얻을 수 있습니다. 분말이 혼합되고 습윤되고, 용매 또는 결합 제가 접선으로 공급된다. 분말 층은 회전식 인서트에 의해 회전된다. 로터 인서트의 가장자리를 따라 조정 가능한 갭을 통해 공급되는 프로세스 공기는 파우더 층을 나선형으로 움직입니다. 로터 인서트의 회전으로 인해 응집체가 형성되어 규칙적인 구형의 조밀 한 펠릿으로 롤링된다. 회 전자 속도는 펠릿의 밀도와 크기에 직접적인 영향을 미칩니다. 습식 펠릿의 건조는 공급 단계의 상승 된 온도에서 건조 단계 동안 로터에서 직접 또는 유동층 건조기에서 일어난다. 펠릿은 바인더 또는 용매를 첨가하여 분말로 직접적이고 매우 빠르게 만들어집니다. 생성 된 과립 또는 펠렛은 (수직 과립 기에서 수득 된 과립의 밀도와 비교하여) 높은 밀도를 갖는다. 필요한 경우, 코팅제를 도포 할 때 고형분 함량이 높은 껍질을받습니다.
명세서
얻어진 펠릿의 입도 조성물의 크기는 광범위하다. 압연에 의한 펠릿 화-압출 공정 후 압출 물에 구형을 형성하는 공정 또는 습식 과립 화 공정 후 습식 과립 화 공정. 구형 과립은 양호한 안정한 유동성을 제공하고 최소 질량 편차를 갖는 정제가 수득된다. 예를 들어, 습식 과립 화 후 런-인에 의해 제조 된 이염 기성 인산 칼슘, 수산화 마그네슘 및 설파 다 이메진 과립을 연구 할 때, 유동성이 40-100 % 증가한 것으로 밝혀졌다. 습식 과립 또는 압출 물은 구형 화제 (spheronizer)라고하는 장비에서 실행됩니다. Spheronizer의 원리는 다음과 같습니다. 첫 번째 단계에서 재료가 압축됩니다. 회전-이송 과립기를 사용하여, 과립이 형성되고,이 과립은 제 2 단계에서 구형으로 구형 화 될 수 있고 장치로부터 제거된다. 제시된 GEA 스페로 나이저에서, 플레이트는 매끄러운 압흔으로 덮여있다. 플레이트는 장치의 벽에 접착되면서 회전합니다. 따라서, 양호한 구형 형상의 펠릿이 형성되고 양호한 입자 크기 분포가 달성된다.
고객을위한 팁
과립 또는 압출 물은 원심력 및 마찰력의 작용에 의해 구형으로 진행된다. 이러한 구형 화기의 설계는 재료의 가장자리 파괴 및 바람직하지 않은 작은 입자의 출현 문제를 해결한다. 프로세스 최적화는 회전 플레이트의 주변을 따라 회전 사이클 시간, 플레이트 회전 속도, 제품 로딩 및 공기 흐름 조절을 선택함으로써 달성됩니다. Glatt 구형 화기에서, 습식 과립 화 생성물 또는 미리 형성된 압출 물은 회전 펠릿 화 디스크에 공급된다. 디스크의 회전으로 인해 들어오는 제품과 제트의 흐름이 공기 측벽의 슬롯을 통해 공급되어 탱크 벽 근처의 나선형 경로를 따라 제품이 순서대로 움직입니다. 집중적 인 롤링으로 인해 입자 표면이 매끄러 워져 펠릿이 형성됩니다. 생성 된 먼지 입자는 공정 동안 생성 된 펠릿에 의해 다시 포집된다. 주기적으로 작동하는 동안 장비의 처리량을 높이기 위해 여러 개의 구형 화기가 캐스케이드로 결합되어 있습니다. 캐스케이드 원리는 또한 층 구조를 갖는 펠릿을 얻는데 사용된다. 이 경우, 펠릿 구조는 이전에 처리 체인을 통과하는 과립 화 공정에 의해 결정됩니다..
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